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描述:固態(tài)電解質(zhì)氣固反應(yīng)電化學池,三腔室設(shè)計,中間腔室用于放置固態(tài)電解質(zhì),陰陽極采用蛇形通道設(shè)計
標題:氣固反應(yīng)電化學池
產(chǎn)品概述
池體1和2之間采用陰離子膜(diox ide material)和氣體擴散層(負載陽極催化劑)雙層結(jié)構(gòu),實現(xiàn)氣固界面和陰離子傳輸(注:需使用熱壓機成型以保證充分接觸)。池體2和3之間采用陽離子膜(nafion115)和氣體擴散層(負載陰極催化劑)雙層結(jié)構(gòu)實現(xiàn)氣固界面和陽離子傳輸(注:需使用熱壓機成型以保證充分接觸)。池體1和2之間采用陰離子膜(diox ide material)和氣體擴散層(負載陽極催化劑)雙層結(jié)構(gòu),實現(xiàn)氣固界面和陰離子傳輸(注:需使用熱壓機成型以保證充分接觸)。池體2和3之間采用陽離子膜(nafion115)和氣體擴散層(負載陰極催化劑)雙層結(jié)構(gòu)實現(xiàn)氣固界面和陽離子傳輸(注:需使用熱壓機成型以保證充分接觸)。
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C031-XRD原位 XRD 光譜電化學池 C031-S原位拉曼(氣體擴散-蛇形流場型) C031-3S原位拉曼光譜電化學池(3H 氣體擴散型) C031-4原位拉曼光譜電化學池(盤狀電極型) C031-3原位拉曼光譜電化學池(3H氣體擴散型)服務(wù)與支持
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